China Mulai Produksi Massal Mesin Litografi DUV Imersi

Telset.id – China telah memulai produksi massal mesin litografi deep ultraviolet (DUV) imersi buatan dalam negeri. Perusahaan milik negara di Shanghai ini akan mengirimkan unit pertama pada tahun 2026 ke tiga raksasa semikonduktor China, yaitu SMIC, Hua Hong Semiconductor, dan ChangXin Memory Technologies (CXMT).

Langkah ini merupakan terobosan signifikan di tengah upaya Amerika Serikat (AS) untuk memutus akses China terhadap teknologi litografi canggih dari perusahaan Belanda, ASML. Menurut laporan The Information yang dikutip dari Tom’s Hardware, produksi massal ini menandai babak baru dalam persaingan teknologi chip global.

Target produksi awal sekitar lima mesin pada tahun 2026 dan meningkat menjadi sekitar 20 mesin pada tahun 2027. Ketiga penerima mesin tersebut masuk dalam daftar perusahaan China yang akan diputus aksesnya dari penjualan dan servis ASML melalui undang-undang yang sedang dibahas di Kongres AS.

Laporan tersebut tidak menyebutkan nama produsen mesin litografi tersebut. Namun, sumber menyebutkan bahwa operasi ini telah menarik tim pengembangan DUV dari beberapa perusahaan China, salah satunya adalah startup milik negara Shanghai Yuliangsheng Technology. SMIC sendiri telah menguji alat imersi buatan Yuliangsheng sejak September 2025.

Meskipun sebagian besar komponen dalam sistem baru ini buatan dalam negeri, beberapa bagian kritis masih harus dipasok dari Jepang. Keterlambatan dari pemasok lokal disebut menjadi faktor yang menghambat target produksi tahun ini.

Undang-undang yang dikenal dengan nama MATCH Act, diperkenalkan pada April lalu, telah dilaporkan keluar dari Komite Urusan Luar Negeri DPR AS pada 22 April. RUU ini juga memiliki pasangan di Senat dengan nomor S. 4281. Ketentuan dalam RUU ini mencakup servis dan bantuan teknis untuk mesin DUV imersi, tidak hanya ekspor baru. Hal ini memperluas cakupannya ke alat-alat yang sudah terpasang dan beroperasi di pabrik China.

Kebijakan ini menjadi bagian dari ketegangan yang lebih luas antara AS dan China di sektor teknologi. Hal serupa juga terlihat dalam desakan tarif impor dari eksekutif otomotif Eropa terhadap produk China.

Sebagai perbandingan, ASML memperkirakan akan mengirim sekitar 130 sistem imersi pada tahun 2026, jumlah yang sama dengan tahun 2025. CFO ASML, Roger Dassen, dalam panggilan pendapatan perusahaan pada Juli lalu, menyatakan bahwa ASML bermaksud “meningkatkan kapasitas sebesar 30% pada tahun 2027” untuk imersi, dan sedang menjajaki peningkatan 30% lagi untuk tahun 2028.

Pangsa pasar China saat ini mencapai sekitar 20% dari penjualan bersih ASML tahun ini, turun dari 33% pada tahun 2025. Penurunan ini terutama didorong oleh permintaan logika arus utama. Mesin DUV imersi mampu mencetak fitur kelas 28nm dalam satu kali eksposur dan mencapai 7nm melalui teknik multipatterning, meskipun dengan konsekuensi pada kesalahan overlay dan hasil produksi.

CEO ASML, Christophe Fouquet, dalam panggilan yang sama mengatakan bahwa meningkatnya intensitas litografi DRAM sebagian mencerminkan pelanggan yang mengganti multipatterning dengan EUV single-exposure yang lebih murah. Sementara itu, analisis independen dari AI Futures Project pada Juni lalu memperkirakan produksi komersial skala besar mesin DUV imersi China baru akan terealisasi pada pertengahan 2030-an. Saat ini, ASML masih menguasai 98,7% pasar imersi.

Proses kualifikasi mesin baru ini untuk lini produksi bisa memakan waktu berbulan-bulan, dan performanya masih tertinggal dari alat buatan ASML dalam hal kualitas dan build quality. Upaya China untuk mengembangkan mesin EUV, yang pertama kali dilaporkan oleh Reuters sebagai prototipe yang berfungsi pada Desember lalu, masih membutuhkan waktu bertahun-tahun lagi.

Perkembangan ini menunjukkan betapa seriusnya China dalam mengejar ketertinggalan teknologi semikonduktor, terutama di tengah debat sengit antara China dan AS mengenai dominasi teknologi. Keberhasilan produksi massal mesin DUV imersi ini bisa menjadi titik balik dalam rantai pasok semikonduktor global.

Dampak langsung dari produksi ini adalah potensi penurunan ketergantungan China pada pasokan alat litografi asing. Jika SMIC, Hua Hong, dan CXMT berhasil mengintegrasikan mesin-mesin ini ke dalam lini produksi mereka, maka China akan memiliki kapasitas yang lebih mandiri untuk memproduksi chip kelas menengah, termasuk chip untuk aplikasi otomotif, IoT, dan perangkat konsumen.

Namun, tantangan terbesar tetap pada kualitas dan konsistensi produksi. Alat litografi adalah mesin yang sangat presisi, membutuhkan ribuan komponen yang bekerja dalam harmoni sempurna. Keterlambatan pemasok lokal dan ketergantungan pada komponen Jepang menunjukkan bahwa rantai pasok China belum sepenuhnya siap.

Dari sisi regulasi, MATCH Act yang sedang dibahas di Kongres AS bisa menjadi hambatan baru. Jika disahkan, undang-undang ini tidak hanya akan menghentikan pengiriman mesin baru ke China, tetapi juga melarang servis dan bantuan teknis untuk mesin ASML yang sudah terpasang. Ini akan memaksa pabrik China untuk bergantung pada kemampuan servis internal atau mencari alternatif dari negara lain.

Di sisi lain, ASML tidak tinggal diam. Perusahaan asal Belanda itu terus meningkatkan kapasitas produksi dan mengembangkan teknologi baru. Investasi besar-besaran ASML dalam riset dan pengembangan, ditambah dengan dominasi pasarnya yang hampir mutlak, membuat persaingan masih berat bagi China.

Namun, sejarah menunjukkan bahwa China memiliki kemampuan untuk mengejar ketertinggalan teknologi dalam waktu yang relatif singkat. Contoh paling jelas adalah industri panel surya, baterai kendaraan listrik, dan telekomunikasi 5G. Dalam waktu satu dekade, China berhasil berubah dari importir menjadi pemimpin global di sektor-sektor tersebut.

Industri semikonduktor memang lebih kompleks dan membutuhkan investasi modal yang sangat besar. Tapi dengan dukungan penuh pemerintah, akses ke pasar domestik yang besar, dan kemampuan untuk merekrut talenta terbaik dari seluruh dunia, China memiliki modal yang cukup untuk bersaing.

Untuk saat ini, fokus utama China adalah pada litografi DUV imersi yang digunakan untuk memproduksi chip 28nm hingga 7nm. Ini adalah segmen pasar yang sangat besar, mencakup chip untuk otomotif, perangkat konsumen, dan aplikasi industri. Jika China berhasil menguasai segmen ini, dampaknya terhadap rantai pasok global akan sangat signifikan.

Langkah China ini juga bisa memicu perubahan strategi di pihak AS dan sekutunya. Jika China benar-benar mampu memproduksi mesin litografi sendiri, maka efektivitas sanksi teknologi akan berkurang drastis. Ini bisa mendorong AS untuk memperketat kontrol ekspor atau mencari cara lain untuk mempertahankan keunggulan teknologinya.

Bagi perusahaan semikonduktor global, perkembangan ini berarti mereka harus mempertimbangkan skenario di mana China menjadi pemasok alternatif untuk alat litografi. Ini bisa memberikan lebih banyak pilihan dan potensi penurunan harga, terutama untuk chip kelas menengah.

Namun, perlu diingat bahwa produksi massal ini masih dalam skala kecil. Target lima mesin pada tahun 2026 dan 20 mesin pada tahun 2027 masih jauh dari kapasitas ASML yang mengirimkan 130 sistem imersi per tahun. Butuh waktu bertahun-tahun bagi China untuk mencapai skala produksi yang signifikan.

Yang jelas, industri semikonduktor global sedang memasuki era baru. Dominasi ASML yang hampir mutlak mulai mendapat tantangan. Meskipun tantangan teknis dan regulasi masih besar, langkah China ini menunjukkan bahwa peta kekuatan dalam industri chip sedang bergeser.

Bagi konsumen, dampak jangka panjang dari perkembangan ini bisa positif. Lebih banyak pemasok alat litografi berarti lebih banyak pilihan dan potensi penurunan harga chip. Namun, dalam jangka pendek, ketidakpastian geopolitik dan rantai pasok masih akan menjadi faktor dominan yang mempengaruhi harga dan ketersediaan chip.

Perkembangan ini juga relevan dengan kenaikan harga server CPU yang terjadi di China, yang menunjukkan betapa krusialnya pasokan chip untuk perekonomian digital.

Kesimpulannya, produksi massal mesin DUV imersi China adalah langkah bersejarah yang bisa mengubah lanskap industri semikonduktor global. Meskipun masih banyak tantangan, langkah ini menunjukkan tekad China untuk mencapai kemandirian teknologi di tengah tekanan geopolitik yang semakin meningkat.